無塵無氧化烤箱是半導體、光電子、新能源與精密制造領域的核心熱處理設備，其以超凈環(huán)境、無氧氛圍與精準溫控，為晶圓烘烤、薄膜退火、光刻膠固化等關鍵工藝保駕護航。任何操作不當都可能導致產(chǎn)品污染、氧化或性能失效，掌握
無塵無氧化烤箱科學、規(guī)范的使用方法，是確保工藝穩(wěn)定與設備壽命的關鍵。
第一步：使用前環(huán)境與設備檢查
確認烤箱放置在潔凈室（如ISO Class 5級或更高）內(nèi)，周圍無振動、無強電磁干擾。檢查電源電壓、氣源（氮氣/氬氣）壓力是否符合要求。確認氣體管路連接牢固，無泄漏。檢查HEPA/ULPA過濾器狀態(tài)，若壓差報警或使用超期，需更換。
第二步：腔體清潔與去污
操作人員穿戴潔凈服、手套與口罩。使用無塵布蘸取高純異丙醇或去離子水，擦拭不銹鋼內(nèi)膽、擱板與門封。避免使用普通抹布或含硅清潔劑，防止二次污染。清潔后關閉箱門，啟動空載循環(huán)凈化程序，確保腔內(nèi)潔凈度達標。
第三步：樣品裝載與擱板設置
將待處理樣品置于專用潔凈舟或晶圓盒中，嚴禁裸手接觸。輕柔放入烤箱，避免劇烈震動產(chǎn)生微粒。合理分布樣品，確保氣流暢通，不遮擋加熱區(qū)與傳感器。記錄樣品信息與工藝編號。
第四步：氣氛置換與真空操作（如適用）
開啟惰性氣體閥門，設定流量（如5-10L/min），進行多次充放氣循環(huán)（Purge Cycle），將腔內(nèi)氧氣含量降至工藝要求（通常＜1ppm）。若需真空工藝，啟動真空泵，抽至設定真空度后關閉閥門，維持負壓。
第五步：程序設定與啟動
通過觸摸屏或控制面板設定工藝曲線：包括升溫速率、目標溫度、恒溫時間、降溫模式等。選擇“氮氣保護”或“真空”模式。確認無誤后啟動運行。系統(tǒng)將自動執(zhí)行升溫、恒溫、冷卻全過程。
第六步：運行中監(jiān)控
觀察溫度曲線、氣體流量與腔體壓力是否穩(wěn)定。通過觀察窗監(jiān)視樣品狀態(tài)，禁止頻繁開門。若出現(xiàn)超溫、氣體壓力異常或系統(tǒng)報警，立即暫停程序，排查原因。
第七步：冷卻與取料
程序結束后，設備自動降溫。嚴禁在高溫下開門，防止空氣涌入導致氧化或熱沖擊。待溫度降至安全值（通常＜60℃）且氣氛穩(wěn)定后，緩慢開啟箱門，取出樣品。取料動作輕柔，避免擾動殘留微粒。
更新時間：2025-10-24 
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